? ? 在鍍鉻時，電鍍液中會逐漸積累一些雜質(zhì)，如Fe（Ⅲ）、Cr（Ⅲ）、Ni、Cu及Zn等，使得電鍍液在使用一段時間后就不能再用于鍍鉻。鍍鉻后的鍍件清洗液中也含有Cr（Ⅵ）及以上雜質(zhì)。離心萃取機(jī)溶劑萃取法用于回收這些溶液中的鉻可有兩種方式。即萃取鉻使鉻與酸、雜質(zhì)金屬分離；或萃取除去雜質(zhì)金屬以使鍍鉻液再生。
? ? 離心萃取機(jī)從廢酸水中回收鉻（Ⅵ）可使用TBP或胺類萃取劑。由此開發(fā)出的過程可獲得99.5%的鉻回收率。萃取的鉻酸既可用苛性蘇打或pH為4的水反萃，也可用鉻酸鈉溶液反萃。反萃液中Cr（Ⅵ）的濃度可達(dá)200kg/m3，而Cr（Ⅲ）少于20g/m3。
? ? 離心萃取機(jī)從鉻電鍍液中萃取雜質(zhì)采用HDNNS（二壬基萘磺酸）與TBP混合溶劑。萃取效率受到電鍍液酸度的限制。用水稀釋電鍍液可使操作得到很大改善，水的平衡通過在電鍍期間的自然蒸發(fā)可得到部分保持。共萃的少量鉻酸可用水洗去，洗水用作電鍍液在萃取前的稀釋。反萃采用5mol/m3?H2SO4或HCL，得到的反萃液中金屬濃度超過60kg/m3。下圖示出其工業(yè)流程。
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