鈷和鎳在電子領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用，隨著工業(yè)的發(fā)展，鈷和鎳的市場(chǎng)前景巨大。由于鈷和鎳?yán)砘再|(zhì)非常相似，導(dǎo)致二者難以直接采用化學(xué)沉淀或氧化等經(jīng)典方法直接進(jìn)行回收，需要先將二者事先進(jìn)行分離。
在鎳鈷分離領(lǐng)域，溶劑萃取法被廣泛應(yīng)用。鎳鈷溶劑萃取設(shè)備目前使用比較多的有離心萃取機(jī)和混合澄清槽。其中萃取槽是技術(shù)比較成熟，目前在用比較多的。但是由于傳統(tǒng)設(shè)備存在分相效果差、澄清時(shí)間長(zhǎng)、有夾帶等問題，所以現(xiàn)在很多廠家開始考慮用新型離心萃取機(jī)替代原有的萃取槽使用。
天一萃取推出的CWL-M新型離心萃取機(jī)，在萃取鎳鈷的過程中，可降低設(shè)備內(nèi)料液存量，提高分離效率。并且，采用離心萃取裝置從溶液中萃取鎳鈷時(shí)，由于混合強(qiáng)度高，物料在極短的停留時(shí)間內(nèi)可以達(dá)到平衡狀態(tài)，能耗相較傳統(tǒng)混合澄清槽大幅降低，處理量提高。同時(shí)，離心萃取裝置內(nèi)存料量小，分相速度快、效果好，避免出現(xiàn)乳化現(xiàn)象。目前，用于濕法冶金領(lǐng)域的離心萃取機(jī)型號(hào)有：CWL150-M，CWL250-M，CWL350-M，CWL450-M，CWL550-M，CWL650-M，CWL850-M。
天一萃取CWL-M新型離心萃取鎳鈷工藝系統(tǒng)主要包含萃取和反萃工段，具體工藝流程為：
目前，金川集團(tuán)硫酸鎳萃取項(xiàng)目采用的就是鄭州天一CWL-M系列新型離心萃取機(jī)。該項(xiàng)目中整個(gè)工藝流程分為五個(gè)工段：萃取、酸洗、反萃取、再生，主機(jī)設(shè)備采用為核心設(shè)備，該設(shè)備萃取級(jí)效率>96%,反萃級(jí)效率>94%,并且能實(shí)現(xiàn)有效的洗滌和高的反萃流比(o/A),可使氯化鈷溶液富集到>1209l/,Co/iN>100000。萃取后的硫酸鎳產(chǎn)品純度高，溶劑可實(shí)現(xiàn)全部循環(huán)使用、生產(chǎn)車間環(huán)境也大大改善，符合國(guó)家節(jié)能環(huán)保號(hào)召。
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